सिलिका कार्बाइड के गुण

सिलिका कार्बाइड में उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता, मजबूत ऑक्सीकरण प्रतिरोध और उच्च उत्पाद आयामी सटीकता है। चूंकि सिलिकॉन नाइट्राइड उच्च बंधन ताकत वाला एक सहसंयोजक यौगिक है और हवा में एक ऑक्साइड सुरक्षात्मक फिल्म बना सकता है, इसलिए इसमें 1200 डिग्री सेल्सियस से नीचे अच्छा रासायनिक स्थिरता, कोई ऑक्सीकरण नहीं है, आगे ऑक्सीकरण को रोकने के लिए 1200 ~ 1600 डिग्री सेल्सियस पर बनाई गई सुरक्षात्मक फिल्म, और कई प्रकार के पिघले हुए धातुओं या मिश्र धातुओं जैसे कि एल्यूमीनियम, सीसा, टिन, चांदी, पीतल, निकल या जंग से घुसपैठ नहीं की जाती है, लेकिन पिघला हुआ धातु जैसे मैग्नीशियम, निकेल-क्रोमियम मिश्र धातु, स्टेनलेस स्टील, आदि नैनो-सामग्रियों से प्रज्वलित किया जा सकता है। आसान सिन्टरिंग, कम गलनांक, उच्च प्रसार, बड़े विशिष्ट सतह क्षेत्र की विशेषता है, और स्नेहन तंत्र घर्षण सतह पर एक कतरनी प्रवण स्नेहन बनाने के लिए है। झिल्ली न केवल घर्षण को कम कर सकता है, बल्कि घर्षण सतह की मरम्मत भी कर सकता है। यह सुविधा चरम स्थितियों में Si3N4 सिरेमिक बियरिंग्स के घर्षण प्रदर्शन और असर वाले जीवन को प्रभावी ढंग से सुधार सकती है, और संचालन और रखरखाव की कठिनाई को कम करने के लिए स्व-मरम्मत कार्य का उपयोग कर सकती है। असर को हटाने और मरम्मत करने और आर्थिक लागत को कम करने के लिए आवश्यक नहीं है। प्रासंगिक आंकड़ों के अनुसार, सतह तनाव thes / l gs / g से अधिक है, इसलिए उनके बीच का इंटरफ़ेस गीला कोण ting> 90 ° है। एल्यूमीनियम तरल और परत सिरेमिक सामग्री के बीच का इंटरफ़ेस गीला नहीं होता है। इसलिए, एल्यूमीनियम तरल और सिरेमिक इंटरफ़ेस के बीच की सीमा में, पिघला हुआ एल्यूमीनियम-सिलिकॉन मिश्र धातु के संपर्क में सिरेमिक सामग्री की सतह अपेक्षाकृत छोटी है, ताकि एल्यूमीनियम-प्रतिरोधी तरल का संक्षारण प्रतिरोध बहुत बढ़ जाए। R-SiC और Si3N4-SiC सामग्रियों का संक्षारण प्रतिरोध समान है, लेकिन Si3N4-SiC सामग्रियों की लागत अपेक्षाकृत कम है। इसका उपयोग संयुक्त राज्य अमेरिका, जापान, जर्मनी और अन्य देशों में कई वर्षों से किया जा रहा है। चीन में कुछ इलेक्ट्रोलाइटिक एल्यूमीनियम कंपनियां सिलिकॉन नाइट्राइड का भी उपयोग कर रही हैं। इलेक्ट्रोलाइटिक सेल की साइड की दीवारों पर सिलिकॉन कार्बाइड ईंटों के संयोजन का प्रभाव अच्छा है। अल-सी मिश्र धातुओं के ऊष्मीय चक्र में R-SiC और Si3N4-SiC सिरेमिक सामग्री की संक्षारण दर क्षीणन के लघुगणक संबंध के अनुसार है और इसमें रासायनिक स्थिरता अच्छी है। R-SiC और Si3N4-SiC एल्यूमीनियम सिलिकॉन के साथ प्रतिक्रिया नहीं करते हैं, सतह पर कोई नया चरण नहीं बनता है, और दो पिघले हुए एल्यूमीनियम सिलिकॉन के साथ घुसपैठ नहीं करते हैं, और एल्यूमीनियम सिलिकॉन समाधान के साथ संपर्क क्षेत्र अपेक्षाकृत छोटा है।

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